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電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series

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件名：ソース: Ku Peek Class

24989 コレクションおよび/またはレコード 表示:

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58631. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58631
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.

(備考)pair.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58632. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58632
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.

(備考)pair.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58633. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58633
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58634. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58634
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58635. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58635
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58636. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58636
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58637. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58637
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58638. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 50K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58638
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.

(備考)pair.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58639. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, 50K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58639
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)50K.

(備考)pair.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58640. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, 50K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58640
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)50K.

(備考)pair.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58641. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, 50K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58641
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)50K.

(備考)pair.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58642. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58642
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)111.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58643. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58643
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58644. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, 5.3K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58644
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)5.3K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58645. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58645
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)110.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58646. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58646
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58647. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 50K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58647
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58648. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58648
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58649. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58649
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58650. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58650
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)X（100面）.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58651. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58651
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58652. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58652
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58653. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58653
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58654. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58654
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58655. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58655
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58656. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58656
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58657. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58657
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58658. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58658
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)200.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58659. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58659
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58660. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58660
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58661. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58661
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)200.

(備考)（110）面.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58662. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58662
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)111.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58663. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58663
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58664. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58664
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58665. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58665
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

(備考)dislありなし両者ともｇ＝200でうつす.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58666. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58666
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58667. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58667
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)200.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58668. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58668
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58669. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58669
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58670. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58670
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58671. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58671
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58672. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58672
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)α　.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58673. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58673
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58674. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 31K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58674
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58675. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 31K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58675
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58676. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58676
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58677. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58677
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58678. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58678
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58679. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58679
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58680. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58680
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

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