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共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度

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関係者用
件名：ソース: Ku Peek Class

5428 コレクションおよび/またはレコード 表示:

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54483. Mo, RTNS-II, LT, SS, DF, 100K., [1989年]1/30.

 アイテム
資料番号: O-54483
範囲と内容

(試料)Mo. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)LT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.

日付: [1989年]1/30.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54484. Mo, RTNS-II, LT, SS, DF, 100K., [1989年]1/30.

 アイテム
資料番号: O-54484
範囲と内容

(試料)Mo. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)LT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝2.

日付: [1989年]1/30.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54485. Mo, RTNS-II, LT, SS, DF, 100K., [1989年]1/30.

 アイテム
資料番号: O-54485
範囲と内容

(試料)Mo. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)LT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年]1/30.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54486. Mo, RTNS-II, LT, SS, BF, 100K., [1989年]1/30.

 アイテム
資料番号: O-54486
範囲と内容

(試料)Mo. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)LT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年]1/30.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54487. Mo, RTNS-II, LT, SS, DF, 100K., [1989年]1/30.

 アイテム
資料番号: O-54487
範囲と内容

(試料)Mo. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)LT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.

日付: [1989年]1/30.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54488. Mo, RTNS-II, LT, SS, DF, 100K., [1989年]1/30.

 アイテム
資料番号: O-54488
範囲と内容

(試料)Mo. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)LT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝2.

日付: [1989年]1/30.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54489. Mo, RTNS-II, LT, SS, ED., [1989年]1/30.

 アイテム
資料番号: O-54489
範囲と内容

(試料)Mo. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)LT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年]1/30.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54490. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54490
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)日付元記載「1/31」.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54491. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54491
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54492. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54492
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54493. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54493
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝2.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54494. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54494
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝2.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54495. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54495
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.5.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54496. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54496
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.5.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54497. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54497
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.5.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54498. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54498
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.5.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54499. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54499
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54500. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54500
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54501. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54501
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54502. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54502
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54503. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54503
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54504. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54504
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54505. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54505
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54506. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54506
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54507. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54507
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54508. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54508
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54509. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54509
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝2.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54510. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54510
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54511. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54511
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54512. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 210K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54512
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)210K.

(備考)→ｇ.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54513. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54513
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54514. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 210K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54514
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)210K.

(備考)←ｇ.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54515. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54515
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54516. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 210K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54516
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)210K.

(備考)→ｇ.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54517. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54517
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54518. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 210K., [1989年]1/31.

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資料番号: O-54518
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)210K.

(備考)←ｇ.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54519. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

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資料番号: O-54519
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54520. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54520
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54521. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54521
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54522. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

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資料番号: O-54522
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)①. 日付元記載「1/31」.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54523. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

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資料番号: O-54523
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)①.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54524. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54524
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.

(備考)①.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54525. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54525
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝2.

(備考)①.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54526. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54526
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)A　①.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54527. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54527
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)B　①.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54528. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54528
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)C　①.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54529. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54529
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)D　①.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54530. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54530
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)E　GBのそば　①.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54531. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54531
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)A　②.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54532. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54532
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)B　②.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

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