共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度
5246 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43722. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)B あるふぁ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43723. Ni, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43724. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43725. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)B β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43726. Ni, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43727. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43728. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)B β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43729. Ni, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)e-のものと思われる。.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43730. Ni, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)Large loop by n-irr.なしと断言.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43740. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A α. 日付元記載「1989. 8. 30」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43741. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10k., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10k. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43742. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43743. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓.
(備考)A α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43744. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43745. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, ED., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)↓.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43746. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43747. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43748. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43749. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43750. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43751. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43752. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, ED., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)↑.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43753. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (反射ベクトルg)↑.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43754. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43755. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)B β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43756. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A γ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43757. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B γ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43758. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A γ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43759. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B γ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43760. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>0 just.
(備考)A γ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43761. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)over 1step(M-L).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43762. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)under.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43763. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, ED., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)↑.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43764. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A δ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43765. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B δ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43766. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B δ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43767. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A δ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43768. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, ED., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43769. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43770. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43771. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 20K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43772. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 20K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)75とg 逆.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43773. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43774. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 20K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43775. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 20K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)72とg 逆.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43776. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43777. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 20K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43778. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 20K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43779. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)T-Controlled A γ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43780. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B γ.