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共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度

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関係者用
件名：ソース: Ku Peek Class

5246 コレクションおよび/またはレコード 表示:

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58648. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58648
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58649. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58649
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58650. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58650
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)X（100面）.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58651. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58651
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58652. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58652
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58653. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58653
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58654. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58654
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58655. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58655
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58656. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58656
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58657. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58657
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58658. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58658
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)200.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58659. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58659
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58660. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58660
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58661. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58661
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)200.

(備考)（110）面.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58662. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58662
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)111.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58663. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58663
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58664. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58664
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58665. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58665
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

(備考)dislありなし両者ともｇ＝200でうつす.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58666. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58666
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58667. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58667
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)200.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58668. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58668
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58669. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58669
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58670. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58670
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58671. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58671
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58672. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58672
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)α　.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58673. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58673
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58674. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 31K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58674
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58675. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 31K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58675
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58676. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58676
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58677. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58677
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58678. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58678
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58679. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58679
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58680. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58680
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58681. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58681
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58682. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58682
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)β.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58683. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58683
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)β.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58684. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 31K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58684
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)β.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58685. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58685
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

(備考)β.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58686. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58686
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K.

(備考)β.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58687. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58687
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K.

(備考)β.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58688. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58688
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

(備考)β.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58689. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58689
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58690. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58690
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58691. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 5.3K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58691
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5.3K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58692. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58692
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58693. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58693
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58694. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58694
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58695. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58695
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58696. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58696
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58697. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58697
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

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