共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度
2483 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73537. Ni-2Ge, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
(備考)GB.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73538. Ni-2Ge, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
(備考)GB.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73539. Ni-2Ge, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73540. Ni-2Ge, JMTR, 400℃-U, ED., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73541. Ni-2Si, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
(備考)GB近く.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73542. Ni-2Si, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
(備考)GB近く.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73543. Ni-2Si, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
(備考)GB近く.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73544. Ni-2Si, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
(備考)GB近く.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73545. Ni-2Si, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
(備考)GB近く.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73546. Ni-2Si, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
(備考)GB近く.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73547. Ni-2Si, JMTR, 400℃-U, ED., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73548. Ni-2Si, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
(備考)GB.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73549. Ni-2Si, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
(備考)GB.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73550. Ni-2Si, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
(備考)GB.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73551. Ni-2Si, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
(備考)GB.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73552. Ni-2Si, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
(備考)GB.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73553. Ni-2Si, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
(備考)GB.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73554. Ni-2Si, JMTR, 400℃-U., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)400℃-U.
(備考)GB.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73555. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, DF, 50K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)実験者元記載「浜田」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73556. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, DF, 100K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73557. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, BF, 100K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73558. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, BF, 100K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73559. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, BF, 50K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73560. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, DF, 50K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73561. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, DF, 50K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73562. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, DF, 50K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73563. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, DF, 100K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73564. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, DF, 200K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)200K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73565. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, DF, 100K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)SFTでは.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73566. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, DF, 100K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73567. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, BF, 100K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73568. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, BF, 50K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73569. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, BF, 59K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)59K.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73570. Ni-0.3Si, JMTR, 先の行った200℃, ED, 55cm., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先の行った200℃. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73571. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, DF, 50K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)実験者元記載「浜田」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73572. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, DF, 100K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73573. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, BF, 50K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73574. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, BF, 100K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73575. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, BF, 50K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73576. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, BF, 100K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73577. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, BF, 100K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73578. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, BF, 50K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73579. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, DF, 50K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73580. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, DF, 50K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73581. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, DF, 50K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73582. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, DF, 100K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73583. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, DF, 200K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)200K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73584. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, BF, 50K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73585. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, BF, 100K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-73586. Ni-0.05Si, JMTR, 先に行った200℃, BF, 50K., [1991年7月24日.]
(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR. (照射温度)先に行った200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)88とステレオ対.