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[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29413. Ni-2Si, G319, RTNS-II, 200℃, SS., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]

 アイテム
資料番号: O-29413

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (試料番号)G319. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (ブラック条件からのずれs)s=0.

日付

  • 作成: [1986年8月3日以降5日以前.]
  • 作成: [1986-08-03/1986-08-05.]

作成者

資料の言語

日本語 Japanese

資料の言語

English

分量(全体)

1 枚.

関連資料

(記録ノート) O-7, 14

https://peek.rra.museum.kyoto-u.ac.jp/ark:/62587/ar114199.114324/do000446616.jpg

出所・作成(表示) | Origination (exp.)

北海道大学桐谷研究室.

リポジトリの詳細

つぎのリポジトリの一部: Kyoto University Research Resource Archive リポジトリ

連絡先:
(運営責任部局) 京都大学総合博物館 The Kyoto University Museum
左京区 吉田本町 Sakyo-ku Yoshida honmachi,
京都市 Kyoto city, 京都府 Kyoto prefecture, 606-8501 Japan