メインコンテンツへスキップ

ニッケル合金

 主題

関係者用
件名：ソース: Ku Peek

2219 コレクションおよび/またはレコード 表示:

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54265. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 100K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54265
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)100K.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54266. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54266
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54267. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54267
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

(備考)動かしたところ　上と同じ厚さ.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54268. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54268
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

(備考)動かしたところ　上と同じ厚さ.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54269. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54269
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

(備考)動かしたところ　上と同じ厚さ.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54270. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54270
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54271. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54271
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54272. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54272
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54273. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54273
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54274. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54274
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54275. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54275
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54276. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54276
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54277. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54277
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54278. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54278
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54279. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 100K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54279
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞＞0（3）.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54280. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 100K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54280
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞＞0（3）.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54281. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54281
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54282. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54282
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54283. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54283
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54284. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54284
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54285. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54285
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)DF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54286. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54286
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)DF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54287. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54287
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54288. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54288
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)DF.

(備考)隣の視野（同じGB）.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54289. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54289
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)DF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54290. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54290
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)DF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54291. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54291
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)DF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54292. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54292
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)ED.

(備考)隣のGB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54293. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54293
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

(備考)他のGB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54294. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54294
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54295. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54295
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

(備考)他のGB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54296. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54296
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54297. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54297
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54298. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54298
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54299. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54299
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54300. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4, 52K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54300
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)JM(01)　.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54301. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4, 52K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54301
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54302. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54302
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54303. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54303
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54304. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54304
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54305. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54305
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54306. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54306
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54307. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54307
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54308. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54308
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54309. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54309
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54310. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54310
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)他の視野（同じgrain）.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54311. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54311
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)反対のGB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54312. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54312
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)反対のGB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54313. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54313
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)反対のGB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54314. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54314
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

Powered by ArchivesSpace v4.1.1 | 研究資源アーカイブホームページ