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[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54299. Ni-2Ge, JMTR controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54299
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54299. Ni-2Ge, JMTR controlled, 290℃, 7. (1)
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54299. Ni-2Ge, JMTR controlled, 290℃, 7. (2)

範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

日付

  • 作成: [1988年11月30日以降.]

作成者

資料の言語

日本語 Japanese

資料の言語

English

使用条件

原本現在使用不可.

The original is currently unavailable.

分量(全体)

1 枚.

関連資料

(記録ノート) O-18, 23

https://peek.rra.museum.kyoto-u.ac.jp/ark:/62587/ar114199.114335/do000447310.jpg

参考文献

T. Yoshiie, K. Hamada, S. Kojima, M. Kiritani. The role of free point defects in defect structure evolution during cascade damage. Defect and Diffusion Forum. 1993, Vols.95-98, p.243-248. https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/DDF.95-98.243 (accessed 2021-03-23).
Fig. 3 Ni-2at%Ge

出所・作成(表示) | Origination (exp.)

北海道大学義家研究室.

«ARK(former)»

https://peek.rra.museum.kyoto-u.ac.jp/ark:/62587/ar114199.180047

リポジトリの詳細

つぎのリポジトリの一部: Kyoto University Research Resource Archive リポジトリ

連絡先:
(運営責任部局) 京都大学総合博物館 The Kyoto University Museum
左京区 吉田本町 Sakyo-ku Yoshida honmachi,
京都市 Kyoto city, 京都府 Kyoto prefecture, 606-8501 Japan