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京都大学複合原子力科学研究所照射材料工学研究分野

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63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54299. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54299
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54300. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4, 52K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54300
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)JM(01)　.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54301. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4, 52K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54301
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54302. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54302
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54303. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54303
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54304. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54304
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54305. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54305
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54306. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54306
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54307. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54307
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54308. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54308
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54309. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54309
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54310. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54310
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)他の視野（同じgrain）.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54311. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54311
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)反対のGB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54312. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54312
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)反対のGB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54313. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54313
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)反対のGB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54314. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54314
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54315. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54315
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)GB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54316. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54316
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54317. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54317
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54318. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54318
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54319. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54319
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54320. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54320
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54321. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54321
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54322. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54322
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54323. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54323
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (Dark, Bright, ED)BF.

(備考)GB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54324. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54324
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)200.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54325. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54325
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)200.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54326. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54326
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)200.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54327. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54327
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)200.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54328. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54328
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)200.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54329. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54329
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)200.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54330. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54330
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)200.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54331. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54331
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)200.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54332. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54332
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)200.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54333. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54333
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)200.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54334. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54334
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)200.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54335. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54335
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)200.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54336. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54336
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54337. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54337
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54338. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54338
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54339. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54339
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54340. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54340
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54341. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54341
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)他のGB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54342. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54342
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54343. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54343
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)GB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54344. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54344
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54345. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54345
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)GB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54346. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54346
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54347. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54347
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)小傾角.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54348. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54348
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)小傾角.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

追加の絞り込み:

主題
電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
北海道札幌市北区北１４条西９丁目 42464
電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
ニッケル 11193
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
銅 7814
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
金 6400
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
銅合金 2962
銀 2835
ステンレス鋼 2785
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
鉄 2479
ニッケル合金 2219
バナジウム 1948
鉄合金 1400
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
ムライト 247
アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
モリブデン 225
アルミニウム 129
ゲルマニウム 85
ノート 63
材料試験 63
記録ノート Notebooks 63
電子顕微鏡 63
東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
資料利用例（論文等掲載元データ登録分） Micrographs published in papers (selelcted) 55
炭化珪素 54
記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
珪素 6
Collection 1
アルミニウム合金 1
写真 1
原子炉材料 1
格子欠陥 1
結晶構造 1
金属材料 1
金属複合材料 1

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