[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54327. Ni-2Si, JMTR controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]
アイテム
資料番号: O-54327
範囲と内容
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)200.
日付
- 作成: [1988年11月30日以降.]
作成者
- 義家, 敏正, 1948- (Creator, 個人)
- 北海道大学工学部精密工学科物理工学講座 (Contributor, 団体)
- 京都大学複合原子力科学研究所照射材料工学研究分野 (Custodian, 団体)
資料の言語
日本語 Japanese
資料の言語
English
分量（全体）
1 枚.
出所・作成（表示） | Origination (exp.)
北海道大学義家研究室.
主題
- 義家, 敏正, 1948- (個人)
- 北海道大学工学部精密工学科物理工学講座 (団体)
- 京都大学複合原子力科学研究所照射材料工学研究分野 (団体)
リポジトリの詳細
つぎのリポジトリの一部： Kyoto University Research Resource Archive リポジトリ
連絡先:
(運営責任部局) 京都大学総合博物館 The Kyoto University Museum
左京区 吉田本町 Sakyo-ku Yoshida honmachi,
京都市 Kyoto city, 京都府 Kyoto prefecture, 606-8501 Japan
(運営責任部局) 京都大学総合博物館 The Kyoto University Museum
左京区 吉田本町 Sakyo-ku Yoshida honmachi,
京都市 Kyoto city, 京都府 Kyoto prefecture, 606-8501 Japan